Intel pokazuje svoju prvu vaflu napravljenu u 10 nm, a prva će stići na fpga

Bez sumnje, Intel je na čelu tehnologije za obradu silicija i uvijek je bio jedan od najjačih zagovornika kategorizacije u cijeloj industriji, kako bi se izbjegla zbrka i stavilo u perspektivu svoje vodstvo u procesu. To je zbog toga što nisu svi proizvođači čipova koji se baziraju na siliciju koristi iste standarde za mjerenje veličine svojih tranzistora i igraju se "prljavo" kako bi izgledali naprednije nego što zapravo jesu.

Intel započinje proizvodnju sa svojim 10nm procesom Tri-Gate

Intelovo vodstvo proteže se na 10 mm gdje namjeravaju poboljšati gustoću tranzistora 2, 7 puta. Proizvodnja Intelovih čipova na 10 nm počet će u sektoru FPGA-ova koji su zbog svoje izuzetno suvišne naravi najprikladniji kandidat, jer kvar ne bi donio katastrofalne probleme s pogođenim čipovima, Intel jednostavno može onemogućiti pojedinačni nizovi vrata s nedostacima koje treba iskoristiti. Svi su proizvodni procesi nezreli u svojim počecima, pa u početku nisu pogodni za izradu vrlo složenih monolitnih čipova u kojima bi stopa uspjeha bila preniska.

To je glavni razlog zašto Intel stavlja svoj FPGA arhitekturu "Falcon Mesa" na test s postupkom od 10 nm. To kompaniji omogućuje daljnje usavršavanje 10nm proizvodnog procesa s relativno niskim rizikom, koji je manje osjetljiv na pitanja vezana uz performanse i nedostatke, istovremeno optimizirajući za proizvodnju svojih najkritičnijih proizvoda., uglavnom CPU-i. Mesa Falconov dizajn „FPGA“ također će iskoristiti Intelovo EMIB rješenje za pakiranje, gdje se pakiranje čipova vrši dodatnim silicijumskim podlogama koje omogućuju brže povezivanje i prijenos podataka između zasebnih silikonskih blokova. Time se izbjegava potreba za potpunim silikonskim interposerarom jer AMD koristi svoje Vega grafičke kartice, učinkovitiji, ali mnogo skuplji način za to.

To znači da Intel ne treba proizvoditi sve komponente čipa u istom nisko-rizičnom, 10 - nm procesom visokih performansi jer mogu koristiti druge procesne čvorove na 14 nm ili čak 22 nm za dijelove koji nisu kritični u pogledu troše energiju ili ne zahtijevaju vrhunsku proizvodnju.

Izvor: techpowerup